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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第263位 136件
（
2022年：第259位 138件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第87位 361件
（2022年：第85位 351件）
（ランキング更新日：2025年2月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7254940 | オーバーレイ計測システム及びオーバーレイ計測装置 | 2023年 4月10日 | |
| 特許 7254971 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2023年 4月10日 | |
| 特許 7254069 | 自動分析装置 | 2023年 4月 7日 | |
| 特許 7254102 | 電磁界遮蔽板、その製造方法、電磁界遮蔽構造、および半導体製造環境 | 2023年 4月 7日 | |
| 特許 7253668 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2023年 4月 6日 | |
| 特許 7253045 | 生体ポリマ分析装置及び生体ポリマ分析方法 | 2023年 4月 5日 | |
| 特許 7253066 | 生体試料分析装置、生体試料分析方法 | 2023年 4月 5日 | |
| 特許 7250642 | 荷電粒子線装置および荷電粒子線検査システム | 2023年 4月 3日 | |
| 特許 7250661 | 荷電粒子線装置 | 2023年 4月 3日 | |
| 特許 7249315 | プラズマ処理装置 | 2023年 3月30日 | |
| 特許 7247083 | イオン源および質量分析計 | 2023年 3月28日 | |
| 特許 7246296 | 荷電粒子線装置およびホルダ | 2023年 3月27日 | |
| 特許 7246498 | 複合型自動分析装置、システム、及び異常判定方法 | 2023年 3月27日 | |
| 特許 7245733 | ウェハ観察装置およびウェハ観察方法 | 2023年 3月24日 | |
| 特許 7245801 | 膜厚検査装置 | 2023年 3月24日 |
363 件中 271-285 件を表示
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7254940 7254971 7254069 7254102 7253668 7253045 7253066 7250642 7250661 7249315 7247083 7246296 7246498 7245733 7245801
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