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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第383位 96件
(2013年:第430位 93件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第284位 137件
(2013年:第457位 78件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5432378 | EUVマイクロリソグラフィー用基板及びミラーとその製造方法 | 2014年 3月 5日 | |
特許 5431345 | 結像光学系、この種の結像光学系を含むマイクロリソグラフィのための投影露光装置、及びこの種の投影露光装置を用いて微細構造構成要素を生成する方法 | 2014年 3月 5日 | |
特許 5429937 | 投影露光システム及びその使用方法 | 2014年 2月26日 | |
特許 5420130 | 波面検出装置 | 2014年 2月19日 | |
特許 5420845 | 反射屈折投影対物レンズ | 2014年 2月19日 | |
特許 5420821 | 反射屈折投影対物レンズ | 2014年 2月19日 | |
特許 5414968 | 光学撮像システムの測定装置および操作方法 | 2014年 2月12日 | |
特許 5411296 | 投影露光システム用の少なくとも1つの磁石を有するアクチュエータ、その製造方法、及び磁石を有する投影露光システム | 2014年 2月12日 | |
特許 5404931 | 偏向ミラーを含む反射屈折投影対物系及び投影露光方法 | 2014年 2月 5日 | |
特許 5398770 | 偏光変調光学素子 | 2014年 1月29日 | |
特許 5401604 | 光学補正構成体を備える半導体リソグラフィ用の投影露光装置 | 2014年 1月29日 | |
特許 5396673 | 投影露光装置、投影露光方法及び投影対物レンズ | 2014年 1月22日 | |
特許 5390691 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2014年 1月15日 | |
特許 5390640 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2014年 1月15日 | |
特許 5385970 | EUVマイクロリソグラフィ用の照明光学系及びこの種の照明光学系を含む照明系並びに投影露光装置 | 2014年 1月 8日 |
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5432378 5431345 5429937 5420130 5420845 5420821 5414968 5411296 5404931 5398770 5401604 5396673 5390691 5390640 5385970
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2月18日(火) -
2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
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2月19日(水) -
2月19日(水) -
2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月18日(火) -
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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