特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

（ランキング更新日：2025年7月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6584350	制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム	2019年10月 2日
特許 6584352	制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム	2019年10月 2日
特許 6584355	プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法	2019年10月 2日
特許 6584356	基板処理装置及び基板処理装置の処理方法	2019年10月 2日
特許 6584532	研削装置および研削方法	2019年10月 2日
特許 6585180	膜形成装置及び膜形成方法	2019年10月 2日
特許 6585240	基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体	2019年10月 2日
特許 6585242	基板洗浄装置、基板洗浄方法および記憶媒体	2019年10月 2日
特許 6586328	被処理体を処理する方法	2019年10月 2日
特許 6586394	静電容量を表すデータを取得する方法	2019年10月 2日
特許 6586443	被処理体を処理する方法	2019年10月 2日
特許 6586476	光増感化学増幅型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法、並びに、半導体デバイス、リソグラフィ用マスク及びナノインプリント用テンプレートの製造方法	2019年10月 2日
特許 6579941	剥離システム	2019年 9月25日
特許 6580776	基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体	2019年 9月25日
特許 6581831	保持部の姿勢維持機構	2019年 9月25日

418 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6584350 6584352 6584355 6584356 6584532 6585180 6585240 6585242 6586328 6586394 6586443 6586476 6579941 6580776 6581831

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数