特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2020年5月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6584350 | 制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584352 | 制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584355 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584356 | 基板処理装置及び基板処理装置の処理方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584532 | 研削装置および研削方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6585180 | 膜形成装置及び膜形成方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6585240 | 基板洗浄システム、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6585242 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6586328 | 被処理体を処理する方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6586394 | 静電容量を表すデータを取得する方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6586443 | 被処理体を処理する方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6586476 | 光増感化学増幅型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法、並びに、半導体デバイス、リソグラフィ用マスク及びナノインプリント用テンプレートの製造方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6579941 | 剥離システム | 2019年 9月25日 | |
| 特許 6580776 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2019年 9月25日 | |
| 特許 6581831 | 保持部の姿勢維持機構 | 2019年 9月25日 |
418 件中 91-105 件を表示
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6584350 6584352 6584355 6584356 6584532 6585180 6585240 6585242 6586328 6586394 6586443 6586476 6579941 6580776 6581831
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