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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年10月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6574737 | 整合器及びプラズマ処理装置 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6569520 | 成膜装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6569521 | 成膜装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6569574 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6570390 | 温度調整装置及び基板処理装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6570894 | 温度制御方法 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6570971 | プラズマ処理装置およびフォーカスリング | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6570993 | プラズマ処理装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6571022 | 基板処理装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6571253 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6565645 | 原料ガス供給装置、原料ガス供給方法及び記憶媒体 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6566430 | 基板処理方法 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6566683 | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6566897 | 制御装置、基板処理システム、基板処理方法及びプログラム | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6566904 | 基板処理装置 | 2019年 8月28日 |
418 件中 121-135 件を表示
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6574737 6569520 6569521 6569574 6570390 6570894 6570971 6570993 6571022 6571253 6565645 6566430 6566683 6566897 6566904
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