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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年11月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6576124 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6576235 | ＤＲＡＭキャパシタの下部電極およびその製造方法 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6576277 | 窒化膜の形成方法 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6578101 | 処理システム及び処理方法 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6578145 | エッチング方法 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6572371 | ウエハ検査装置 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6573325 | プラズマ密度を制御するシステムおよび方法 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6573498 | プラズマ処理装置 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6573531 | 洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、剥離方法、プログラム、および情報記憶媒体 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6573559 | 気化原料供給装置及びこれを用いた基板処理装置 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6573575 | 凹部の埋め込み方法 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6573820 | プラズマ処理装置用部材及びプラズマ処理装置 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6574547 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6574656 | 基板処理装置 | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6574715 | 基板搬送方法及び基板処理システム | 2019年 9月11日 |
418 件中 106-120 件を表示
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6576124 6576235 6576277 6578101 6578145 6572371 6573325 6573498 6573531 6573559 6573575 6573820 6574547 6574656 6574715
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