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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2025年7月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6013113 | 発熱体の製造方法 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6013250 | プローブ装置 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6013302 | 気泡除去方法、気泡除去装置、脱気装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6013313 | 積層型半導体素子の製造方法、積層型半導体素子、及び、その製造装置 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6013740 | 離脱制御方法及びプラズマ処理装置の制御装置 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6013792 | 基板搬送方法及び基板搬送装置 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6013901 | Ｃｕ配線の形成方法 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6014215 | 粒子捕捉ユニット、該粒子捕捉ユニットの製造方法及び基板処理装置 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6014477 | 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6014513 | プラズマエッチング装置及び制御方法 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6014661 | プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 | 2016年10月25日 | |
| 特許 6007925 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6008608 | レジストマスクの処理方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6008611 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6008771 | 多層膜をエッチングする方法 | 2016年10月19日 |
572 件中 136-150 件を表示
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6013113 6013250 6013302 6013313 6013740 6013792 6013901 6014215 6014477 6014513 6014661 6007925 6008608 6008611 6008771
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