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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
(2017年:第83位 585件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
(2017年:第66位 431件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6349796 | プラズマ処理装置、薄膜トランジスターの製造方法及び記憶媒体 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6352143 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6352230 | 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6353223 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6353373 | 接合装置、接合システムおよび接合方法 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6353374 | 接合装置、接合システムおよび接合方法 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6353636 | 酸化チタン膜の除去方法および除去装置 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6353802 | 処理システム、処理方法、及び、プログラム | 2018年 7月 4日 | |
特許 6353963 | マイクロ波プラズマ処理装置及びマイクロ波供給方法 | 2018年 7月 4日 | |
特許 6347695 | 被エッチング層をエッチングする方法 | 2018年 6月27日 | |
特許 6347752 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2018年 6月27日 | |
特許 6348707 | アモルファスシリコンの結晶化方法、結晶化シリコン膜の成膜方法、半導体装置の製造方法および成膜装置 | 2018年 6月27日 | |
特許 6348765 | マイクロ波加熱処理装置及びマイクロ波加熱処理方法 | 2018年 6月27日 | |
特許 6349234 | シリコン酸化膜の形成方法、及び、シリコン酸化膜の形成装置 | 2018年 6月27日 | |
特許 6344277 | 液処理装置 | 2018年 6月20日 |
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6349796 6352143 6352230 6353223 6353373 6353374 6353636 6353802 6353963 6347695 6347752 6348707 6348765 6349234 6344277
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