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東京エレクトロン株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
（
2017年：第83位 585件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
（2017年：第66位 431件）
（ランキング更新日：2025年10月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6358977 | 熱処理装置、熱処理方法、及び、プログラム | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6359444 | 配線層形成方法、配線層形成システムおよび記憶媒体 | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6359477 | 基板液処理装置 | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6359913 | 処理装置 | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6360276 | 半導体装置、半導体装置の製造方法、半導体製造装置 | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6360770 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2018年 7月18日 | |
| 特許 6354539 | 基板処理装置、基板処理方法、記憶媒体 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6356029 | メタルハードマスクおよびその製造方法 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6356059 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6356091 | 基板液処理装置、ヒータユニットの制御方法および記憶媒体 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6356207 | 基板乾燥方法及び基板処理装置 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6356295 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法および記憶媒体 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6356314 | 基板処理装置、編集方法及び記憶媒体 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6356415 | マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 | 2018年 7月11日 | |
| 特許 6357231 | 化学的研磨平坦化の方法 | 2018年 7月11日 |
507 件中 226-240 件を表示
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6358977 6359444 6359477 6359913 6360276 6360770 6354539 6356029 6356059 6356091 6356207 6356295 6356314 6356415 6357231
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