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東京エレクトロン株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 773件
（
2019年：第58位 660件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第54位 436件
（2019年：第58位 415件）
（ランキング更新日：2025年2月7日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6775450 | ステージクリーニング方法およびステージクリーニング部材、ならびに検査システム | 2020年10月28日 | |
| 特許 6776208 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6776367 | 金属配線層形成方法、金属配線層形成装置および記憶媒体 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6777055 | 基板処理装置 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6777704 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6770825 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6770832 | 接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、接合装置及び接合システム | 2020年10月21日 | |
| 特許 6770848 | 被処理体を処理する方法 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6770868 | プラズマ処理装置のインピーダンス整合のための方法 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6771034 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6771347 | 基板処理装置 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6771418 | 基板処理システム、制御装置、群コントローラ及びホストコンピュータ | 2020年10月21日 | |
| 特許 6771613 | めっき処理方法及びめっき処理部品並びにめっき処理システム | 2020年10月21日 | |
| 特許 6771632 | 載置台構造 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6772886 | 成膜装置 | 2020年10月21日 |
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6775450 6776208 6776367 6777055 6777704 6770825 6770832 6770848 6770868 6771034 6771347 6771418 6771613 6771632 6772886
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＜エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け＞ 基礎から学ぶ／自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 ＜東京会場受講（対面）／Zoomオンライン受講 選択可＞ ＜見逃し視聴選択可＞
2月14日(金) - 東京 千代田区
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