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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第43位 773件
(2019年:第58位 660件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第54位 436件
(2019年:第58位 415件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6778639 | 高周波発生器及びプラズマ処理装置 | 2020年11月 4日 | |
特許 6779165 | 金属汚染防止方法及び成膜装置 | 2020年11月 4日 | |
特許 6779701 | 基板処理装置、基板処理方法及び基板処理方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体 | 2020年11月 4日 | |
特許 6779769 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2020年11月 4日 | |
特許 6779846 | セルフアライン式マルチパターニングのためのその場スペーサ再整形方法及びシステム | 2020年11月 4日 | |
特許 6780330 | 塗布膜除去装置、塗布膜除去方法及び記憶媒体 | 2020年11月 4日 | |
特許 6780557 | ガス供給部材及びガス処理装置 | 2020年11月 4日 | |
特許 6781031 | 基板処理方法及び熱処理装置 | 2020年11月 4日 | |
特許 6781320 | 静電吸着方法、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2020年11月 4日 | |
特許 6774803 | 液滴吐出装置及び吐出検査方法 | 2020年10月28日 | |
特許 6774814 | 化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 | 2020年10月28日 | |
特許 6775036 | 成膜システム、成膜方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2020年10月28日 | |
特許 6775084 | 処理条件設定方法、記憶媒体及び基板処理システム | 2020年10月28日 | |
特許 6775322 | TiON膜の成膜方法 | 2020年10月28日 | |
特許 6775349 | 不揮発性記憶装置の製造方法 | 2020年10月28日 |
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6778639 6779165 6779701 6779769 6779846 6780330 6780557 6781031 6781320 6774803 6774814 6775036 6775084 6775322 6775349
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