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東京エレクトロン株式会社
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6928537 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6928548 | エッチング方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6928745 | スピンオン・カーボンの平坦化のための技術 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6928763 | マイクロ波プラズマによりナノワイヤの角を丸め、調整する方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6928764 | 金属酸化物のスピンオン堆積の方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6928797 | 希ＴＭＡＨを使用してマイクロエレクトロニック基板を処理する方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6928810 | 側壁イメージ転写の方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6929105 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6929148 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6929173 | シリコン酸化膜を形成する方法および装置 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6929209 | シリコン窒化膜の成膜方法及び成膜装置 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6929427 | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6929452 | 基板処理システム、および基板処理方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6929729 | 基板液処理方法、基板液処理装置及び記憶媒体 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6930119 | 加熱装置及び基板処理装置 | 2021年 9月 1日 |
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6928537 6928548 6928745 6928763 6928764 6928797 6928810 6929105 6929148 6929173 6929209 6929427 6929452 6929729 6930119
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