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東京エレクトロン株式会社
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（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6925225 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925243 | クリーニング方法及び成膜方法 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925872 | 基板液処理装置、処理液供給方法及び記憶媒体 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6926233 | 基板液処理装置 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6926303 | 基板処理方法、基板処理装置及び記録媒体 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6926765 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6926939 | 半導体装置の製造方法 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6919350 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6919498 | 成膜装置及び成膜方法 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6919756 | 異物検査装置、基板処理装置及び基板処理システム | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6920131 | 減圧乾燥装置 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6920244 | プラズマ処理方法 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6920245 | 温度制御方法 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6920469 | 光照射装置 | 2021年 8月18日 | |
| 特許 6920524 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2021年 8月18日 |
520 件中 196-210 件を表示
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6925225 6925243 6925872 6926233 6926303 6926765 6926939 6919350 6919498 6919756 6920131 6920244 6920245 6920469 6920524
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