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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6945357 | 制御装置。 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6945361 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6945367 | 基板反り監視装置及びこれを用いた基板処理装置、並びに基板反り監視方法 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6945385 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6945388 | エッチング方法及びエッチング処理装置 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6946473 | 基板処理装置 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6946474 | 基板乾燥装置、基板乾燥方法および記憶媒体 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6946769 | 成膜方法、成膜装置、及び記憶媒体 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6942244 | レーザー加工装置 | 2021年 9月29日 | |
| 特許 6942318 | コロイドシリカ成長阻害剤及び関連する方法及びシステム | 2021年 9月29日 | |
| 特許 6942497 | 処理液供給装置 | 2021年 9月29日 | |
| 特許 6942555 | 基板処理方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム | 2021年 9月29日 | |
| 特許 6943012 | 液処理方法、液処理装置、及び記憶媒体 | 2021年 9月29日 | |
| 特許 6936935 | 有機化合物ガス環境中でのＣｕ含有層の中性ビームエッチング | 2021年 9月22日 | |
| 特許 6937197 | ラップアラウンドコンタクト一体化スキーム | 2021年 9月22日 |
520 件中 136-150 件を表示
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6945357 6945361 6945367 6945385 6945388 6946473 6946474 6946769 6942244 6942318 6942497 6942555 6943012 6936935 6937197
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