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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6948181 | 多層膜をエッチングする方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6948788 | プラズマ処理装置 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6948803 | ガス供給装置、ガス供給方法及び成膜方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6948808 | 基板の蒸気相ヒドロキシルラジカル処理のためのシステム及び方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6948822 | 基板処理装置及び基板取り外し方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6948873 | 測定器を較正する方法、及び、ケース | 2021年10月13日 | |
| 特許 6948875 | 高純度分配ユニット | 2021年10月13日 | |
| 特許 6948916 | 基板処理装置及び通知方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6948927 | 基板搬入出装置、基板処理装置及び基板搬送容器の除電方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6949559 | 基板処理方法 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6950315 | 成膜方法、ボロン膜、及び成膜装置 | 2021年10月13日 | |
| 特許 6950737 | 絶縁膜の成膜方法、絶縁膜の成膜装置及び基板処理システム | 2021年10月13日 | |
| 特許 6944830 | ワーク保持機構及びワーク処理システム | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6945320 | 基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体 | 2021年10月 6日 | |
| 特許 6945336 | ウエハ検査装置 | 2021年10月 6日 |
520 件中 121-135 件を表示
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6948181 6948788 6948803 6948808 6948822 6948873 6948875 6948916 6948927 6949559 6950315 6950737 6944830 6945320 6945336
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