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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6930251 | 塗布膜形成方法、塗布膜形成装置及び記憶媒体 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6930382 | 成膜装置及び成膜方法 | 2021年 9月 1日 | |
| 特許 6924581 | 研磨装置 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6924618 | 静電チャック及びプラズマ処理装置 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6924648 | ホウ素含有ガスおよびフッ化水素ガスを使用した原子層エッチング | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6924843 | 処理液供給システム、処理液供給装置、及びキャリア保管装置 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6924846 | 液供給装置及び液供給方法 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6924943 | 成膜方法及び成膜装置 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925143 | 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925160 | 接合装置 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925196 | 処理装置及び処理方法 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925202 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925213 | 加熱処理装置及び加熱処理方法 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925214 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2021年 8月25日 | |
| 特許 6925219 | 基板処理装置 | 2021年 8月25日 |
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6930251 6930382 6924581 6924618 6924648 6924843 6924846 6924943 6925143 6925160 6925196 6925202 6925213 6925214 6925219
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