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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6895476 | プラズマ処理装置用の部材、及び当該部材を備えるプラズマ処理装置 | 2021年 6月30日 | |
特許 6895600 | 現像可能な底部反射防止コーティングおよび着色インプラントレジストのための化学増幅方法および技術 | 2021年 6月30日 | |
特許 6895770 | 接合装置および接合システム | 2021年 6月30日 | |
特許 6895772 | 検査装置およびコンタクト方法 | 2021年 6月30日 | |
特許 6895797 | 成膜装置 | 2021年 6月30日 | |
特許 6895813 | プラズマ溶射ヘッド、プラズマ溶射装置及びプラズマ溶射方法 | 2021年 6月30日 | |
特許 6895818 | 処理液供給装置および処理液供給方法 | 2021年 6月30日 | |
特許 6896129 | 基板処理装置、基板処理方法およびプログラム | 2021年 6月30日 | |
特許 6896565 | インナーウォール及び基板処理装置 | 2021年 6月30日 | |
特許 6893613 | 基板を平坦化するためのシステム及び方法 | 2021年 6月23日 | |
特許 6893616 | 回転、並進、および可変の加工条件による露光線量の均一化 | 2021年 6月23日 | |
特許 6890029 | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | 2021年 6月18日 | |
特許 6890085 | 基板処理装置 | 2021年 6月18日 | |
特許 6890459 | プラズマ処理装置及び制御方法 | 2021年 6月18日 | |
特許 6890476 | シリコン含有膜の形成方法 | 2021年 6月18日 |
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6895476 6895600 6895770 6895772 6895797 6895813 6895818 6896129 6896565 6893613 6893616 6890029 6890085 6890459 6890476
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