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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年9月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6876761 | 基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877188 | ガス供給装置、ガス供給方法及び成膜方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877200 | 基板処理装置の制御装置及び基板処理表示方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877290 | 被処理体を処理する方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877302 | インターカレーション方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877316 | エッチング方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877585 | 基板処理システム、基板処理方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6878154 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6878174 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6878557 | 乾燥装置及び乾燥処理方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6872632 | 基板処理装置 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6873007 | シリコン窒化膜の成膜方法及び成膜装置 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6874583 | プローブ装置 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6875152 | 多孔質膜封孔方法および多孔質膜封孔用材料 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6868376 | 基板処理装置及び基板処理システム | 2021年 5月12日 |
520 件中 331-345 件を表示
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6876761 6877188 6877200 6877290 6877302 6877316 6877585 6878154 6878174 6878557 6872632 6873007 6874583 6875152 6868376
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