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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6903725 | ウエハ検査システム | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6903767 | めっき処理方法、めっき処理装置及び記憶媒体 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6904150 | プラズマ処理装置 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6904231 | 基板処理方法、記憶媒体及び原料ガス供給装置 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6904368 | 半導体基板の処理方法及び半導体基板の処理装置 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6897849 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成方法 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6899265 | 塗布処理方法、塗布処理装置及び記憶媒体 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6899693 | プラズマ処理装置及び制御方法 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6899697 | ゲートバルブ装置及び基板処理システム | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6899904 | 基板搬送装置および基板搬送方法 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6900505 | 基板液処理装置、基板液処理方法および記録媒体 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6900640 | ガス供給装置及びガス供給方法 | 2021年 7月 7日 | |
| 特許 6895295 | 基板液処理装置、基板液処理方法及び記憶媒体 | 2021年 6月30日 | |
| 特許 6895352 | 被加工物を処理する方法 | 2021年 6月30日 | |
| 特許 6895372 | 原料容器 | 2021年 6月30日 |
520 件中 271-285 件を表示
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6903725 6903767 6904150 6904231 6904368 6897849 6899265 6899693 6899697 6899904 6900505 6900640 6895295 6895352 6895372
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