特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第33位　878件（2020年：第43位　773件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6883953	マイクロ波プラズマ処理装置およびマイクロ波プラズマ処理方法	2021年 6月 9日
特許 6884034	オゾン用マスフローコントローラの出力検査方法	2021年 6月 9日
特許 6884191	搬送装置および検査システム	2021年 6月 9日
特許 6884868	多能性幹細胞の未分化状態を判定する方法、多能性幹細胞の継代培養方法およびそれら方法に使用される装置	2021年 6月 9日
特許 6885031	露光装置、露光方法及び記憶媒体	2021年 6月 9日
特許 6879021	塗布膜除去装置、塗布膜除去方法及び記憶媒体	2021年 6月 2日
特許 6879074	液処理装置	2021年 6月 2日
特許 6880664	塗布膜形成装置、塗布膜形成方法及び記憶媒体	2021年 6月 2日
特許 6880913	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2021年 6月 2日
特許 6881010	真空処理装置	2021年 6月 2日
特許 6881120	基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体	2021年 6月 2日
特許 6881273	成膜装置	2021年 6月 2日
特許 6876417	基板処理装置の洗浄方法および基板処理装置の洗浄システム	2021年 5月26日
特許 6876470	ワーク加工装置、ワーク加工方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2021年 5月26日
特許 6876487	検査装置、検査方法、機能液吐出装置及び補正方法	2021年 5月26日

520 件中 316-330 件を表示

... 22

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6883953 6884034 6884191 6884868 6885031 6879021 6879074 6880664 6880913 6881010 6881120 6881273 6876417 6876470 6876487

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数