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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年9月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6906439 | 成膜方法 | 2021年 7月21日 | |
| 特許 6906604 | コンタクトパッドの製造方法及びこれを用いた半導体装置の製造方法、並びに半導体装置 | 2021年 7月21日 | |
| 特許 6907518 | 真空処理装置及び真空処理装置の運転方法。 | 2021年 7月21日 | |
| 特許 6901722 | 流体加熱器、流体制御装置、および流体加熱器の製造方法 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902379 | 処理システム | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902404 | 現像処理装置、現像処理方法及び記憶媒体 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902409 | プラズマ処理装置 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902450 | プラズマ処理方法 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902601 | 基板処理システム | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902628 | 基板処理装置、基板処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902872 | 基板処理システムおよび基板処理方法 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902941 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6902958 | シリコン膜の形成方法および形成装置 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6903114 | 半導体装置の製造方法 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6903171 | 多層配線の形成方法および記憶媒体 | 2021年 7月14日 |
520 件中 256-270 件を表示
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6906439 6906604 6907518 6901722 6902379 6902404 6902409 6902450 6902601 6902628 6902872 6902941 6902958 6903114 6903171
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