ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2022年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2022年 出願公開件数ランキング 第25位 842件
（
2021年：第33位 878件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第38位 690件
（2021年：第45位 515件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7169920 | 静電吸着装置及び除電方法 | 2022年11月11日 | |
| 特許 7169931 | 成膜方法、半導体装置の製造方法、成膜装置、および半導体装置を製造するシステム | 2022年11月11日 | |
| 特許 7170038 | プラズマ処理装置 | 2022年11月11日 | |
| 特許 7170138 | 塗布方法及び塗布装置 | 2022年11月11日 | |
| 特許 7166953 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2022年11月 8日 | |
| 特許 7166089 | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 | 2022年11月 7日 | |
| 特許 7166147 | プラズマ処理装置 | 2022年11月 7日 | |
| 特許 7166189 | 画像生成装置、検査装置及び画像生成方法 | 2022年11月 7日 | |
| 特許 7166427 | 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 | 2022年11月 7日 | |
| 特許 7164773 | パターンを層に転写する方法 | 2022年11月 2日 | |
| 特許 7164777 | ウェハ上の欠陥、金属粒子汚染及び膜成長を抑制するシステム及び方法 | 2022年11月 2日 | |
| 特許 7164289 | 半導体プロセッシング中のオーバレイを制御するための湾曲を制御する応力の位置特定チューニング | 2022年11月 1日 | |
| 特許 7164487 | 基板処理装置 | 2022年11月 1日 | |
| 特許 7162837 | プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法 | 2022年10月31日 | |
| 特許 7163199 | 基板処理装置 | 2022年10月31日 |
693 件中 121-135 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
7169920 7169931 7170038 7170138 7166953 7166089 7166147 7166189 7166427 7164773 7164777 7164289 7164487 7162837 7163199
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月2日(火) -
9月10日(水) - 東京 港区
9月10日(水) -
9月11日(木) - 東京 江東区
9月11日(木) - 広島 広島
ますます頼りにされる商標担当者になるための３つのポイント ～ 社内の商標相談にサクサクと答えられるエッセンスを教えます ～
9月12日(金) -
9月12日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
愛知県名古屋市中区丸の内二丁目８番１１号 セブン丸の内ビル６階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都武蔵野市吉祥寺本町１丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング
愛知県日進市岩崎町野田３－１８ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
