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東京エレクトロン株式会社

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　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第32位　762件（2022年：第38位　690件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-20600	プラズマ処理装置	2023年 2月 9日
特開 2023-20916	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置	2023年 2月 9日
特開 2023-18337	基板処理システム及び基板処理方法	2023年 2月 8日
特開 2023-18340	プラズマ処理装置	2023年 2月 8日
特開 2023-18486	基板表面に形成された凹部に対してルテニウムを埋め込む方法及び装置	2023年 2月 8日
特開 2023-18500	窒化チタン膜を形成する方法、及び窒化チタン膜を形成する装置	2023年 2月 8日
特開 2023-18631	エッチング方法、半導体装置の製造方法、プログラムおよびプラズマ処理装置	2023年 2月 8日
特開 2023-17479	基板処理装置及び基板処理方法	2023年 2月 7日
特開 2023-17503	基板処理装置及び基板処理方法	2023年 2月 7日
特開 2023-17577	基板処理方法および基板処理装置	2023年 2月 7日
特開 2023-16204	基板処理方法及び基板処理装置	2023年 2月 2日
特開 2023-16557	プラズマ源及びプラズマ処理装置	2023年 2月 2日
特開 2023-15523	半導体製造装置、条件補正方法、プログラム	2023年 2月 1日
特開 2023-15765	プラズマ処理装置、プラズマ処理装置で使用する上部電極アセンブリ、上部電極アセンブリの製造方法、及び、上部電極アセンブリの再生方法	2023年 2月 1日
特開 2023-15880	光照射装置、基板処理装置及び光照射方法	2023年 2月 1日

725 件中 616-630 件を表示

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2023-20600 2023-20916 2023-18337 2023-18340 2023-18486 2023-18500 2023-18631 2023-17479 2023-17503 2023-17577 2023-16204 2023-16557 2023-15523 2023-15765 2023-15880

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