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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7550603 | プラズマ処理システム及びエッジリングの交換方法 | 2024年 9月13日 | |
特許 7550695 | ステージの検査方法 | 2024年 9月13日 | |
特許 7550868 | 半導体装置の製造方法 | 2024年 9月13日 | |
特許 7551002 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 9月13日 | |
特許 7550018 | 処理方法及び処理システム | 2024年 9月12日 | |
特許 7550035 | 基板洗浄装置 | 2024年 9月12日 | |
特許 7550104 | 基板搬送装置及びアームの冷却方法 | 2024年 9月12日 | |
特許 7549437 | 化合物材料を乾式エッチングするための方法 | 2024年 9月11日 | |
特許 7548664 | 静電チャックの製造方法、静電チャック及び基板処理装置 | 2024年 9月10日 | |
特許 7548665 | 載置台アセンブリ、基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 9月10日 | |
特許 7548666 | 半導体製造装置、基板搬送方法及びプログラム | 2024年 9月10日 | |
特許 7548668 | 基板処理装置 | 2024年 9月10日 | |
特許 7548670 | 検査装置、制御方法及び制御プログラム | 2024年 9月10日 | |
特許 7548671 | 開閉装置及び搬送室 | 2024年 9月10日 | |
特許 7546364 | 基板処理方法、ガス流評価用基板及び基板処理装置 | 2024年 9月 6日 |
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7550603 7550695 7550868 7551002 7550018 7550035 7550104 7549437 7548664 7548665 7548666 7548668 7548670 7548671 7546364
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