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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年9月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7564060 | プラズマ処理装置 | 2024年10月 8日 | |
| 特許 7562277 | 分光分析システム及び分光分析方法 | 2024年10月 7日 | |
| 特許 7562403 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年10月 7日 | |
| 特許 7562913 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年10月 7日 | |
| 特許 7561530 | 成膜方法及び成膜装置 | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7561575 | レシピ更新方法 | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7561579 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7561647 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7561648 | 基板加熱装置および基板加熱方法 | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7561913 | プラズマ処理装置、監視方法および監視プログラム | 2024年10月 4日 | |
| 特許 7561067 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2024年10月 3日 | |
| 特許 7561081 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年10月 3日 | |
| 特許 7561106 | プラズマ処理装置 | 2024年10月 3日 | |
| 特許 7560212 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2024年10月 2日 | |
| 特許 7560214 | 着火方法及びプラズマ処理装置 | 2024年10月 2日 |
809 件中 196-210 件を表示
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7564060 7562277 7562403 7562913 7561530 7561575 7561579 7561647 7561648 7561913 7561067 7561081 7561106 7560212 7560214
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