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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7542451 | プラズマ処理装置 | 2024年 8月30日 | |
特許 7541905 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2024年 8月29日 | |
特許 7541938 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2024年 8月29日 | |
特許 7542078 | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2024年 8月29日 | |
特許 7542158 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年 8月29日 | |
特許 7541430 | 高度なコンタクトにおけるキャップ層形成のためのエリア選択的堆積 | 2024年 8月28日 | |
特許 7540864 | シャワープレート及び成膜装置 | 2024年 8月27日 | |
特許 7540865 | 研削装置 | 2024年 8月27日 | |
特許 7540866 | 研削装置 | 2024年 8月27日 | |
特許 7540867 | 窒化シリコン膜の成膜方法及び成膜装置 | 2024年 8月27日 | |
特許 7540868 | 成膜方法及び成膜システム | 2024年 8月27日 | |
特許 7540869 | 搬送装置のティーチング方法及び搬送システム | 2024年 8月27日 | |
特許 7540872 | パラメータ導出装置、パラメータ導出方法及びパラメータ導出プログラム | 2024年 8月27日 | |
特許 7539818 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7539206 | 基板支持体及び基板処理装置 | 2024年 8月23日 |
809 件中 271-285 件を表示
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7542451 7541905 7541938 7542078 7542158 7541430 7540864 7540865 7540866 7540867 7540868 7540869 7540872 7539818 7539206
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