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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年1月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7556064 | 周縁除去装置及び周縁除去方法 | 2024年 9月25日 | |
| 特許 7556099 | プラズマ処理装置 | 2024年 9月25日 | |
| 特許 7556106 | 静電チャックの形成方法及びプラズマ処理装置 | 2024年 9月25日 | |
| 特許 7554538 | 陥凹特徴部におけるボトムアップ金属化の方法 | 2024年 9月20日 | |
| 特許 7554539 | 狭小トレンチを形成する方法 | 2024年 9月20日 | |
| 特許 7554663 | 基板搬送装置、基板処理システム及び基板処理方法 | 2024年 9月20日 | |
| 特許 7553191 | 基板搬送システムの制御方法及び基板搬送システム | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7553192 | 原料供給装置及び原料供給方法 | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7553193 | 載置台及び基板処理装置 | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7553208 | 基板処理装置及びその制御方法 | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7553736 | 基板処理システム | 2024年 9月18日 | |
| 特許 7551887 | プラズマ処理装置、プロセッサ、制御方法、非一時的コンピュータ可読記録媒体及び電源システム | 2024年 9月17日 | |
| 特許 7550534 | エッチング方法およびエッチング装置 | 2024年 9月13日 | |
| 特許 7550585 | バッチ形成機構および基板処理装置 | 2024年 9月13日 | |
| 特許 7550589 | 基板処理システム | 2024年 9月13日 |
809 件中 226-240 件を表示
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7556064 7556099 7556106 7554538 7554539 7554663 7553191 7553192 7553193 7553208 7553736 7551887 7550534 7550585 7550589
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