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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年1月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7560215 | プラズマ処理装置 | 2024年10月 2日 | |
| 特許 7560506 | 金属含有レジストからのエッジビード領域における金属残留物を低減する方法 | 2024年10月 2日 | |
| 特許 7559145 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2024年10月 1日 | |
| 特許 7557961 | 検査装置、接合システムおよび検査方法 | 2024年 9月30日 | |
| 特許 7557969 | エッチング方法、基板処理装置、及び基板処理システム | 2024年 9月30日 | |
| 特許 7558020 | 基板処理システム、および基板搬送方法 | 2024年 9月30日 | |
| 特許 7558038 | 検査装置における接触解除方法及び検査装置 | 2024年 9月30日 | |
| 特許 7558303 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 9月30日 | |
| 特許 7558397 | 容器 | 2024年 9月30日 | |
| 特許 7557332 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2024年 9月27日 | |
| 特許 7557360 | 処理液供給装置および処理液供給方法 | 2024年 9月27日 | |
| 特許 7557429 | プラズマ処理装置 | 2024年 9月27日 | |
| 特許 7556230 | 基板処理方法、基板処理装置及び基板処理システム | 2024年 9月26日 | |
| 特許 7556642 | 情報処理装置、情報処理システム及び部品発注方法 | 2024年 9月26日 | |
| 特許 7556968 | 基板処理方法、及び基板処理装置 | 2024年 9月26日 |
809 件中 211-225 件を表示
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7560215 7560506 7559145 7557961 7557969 7558020 7558038 7558303 7558397 7557332 7557360 7557429 7556230 7556642 7556968
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