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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年1月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7546384 | 成膜方法及び成膜装置 | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7546403 | 接合装置および接合方法 | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7546418 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7546427 | 搬送方法及び処理システム | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7546456 | エッジリングおよび基板処理装置 | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7546461 | 液処理方法及び液処理装置 | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7546477 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7546749 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7546754 | 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法 | 2024年 9月 6日 | |
| 特許 7545185 | 高度に選択的な酸化ケイ素／窒化ケイ素エッチングのためのエッチング成分及び不動態化ガス成分の独立した制御 | 2024年 9月 4日 | |
| 特許 7543616 | プラズマ選択的堆積によるライン粗さ改善の方法 | 2024年 9月 3日 | |
| 特許 7544446 | 接合装置、及び接合方法 | 2024年 9月 3日 | |
| 特許 7544448 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2024年 9月 3日 | |
| 特許 7544450 | プラズマ処理装置 | 2024年 9月 3日 | |
| 特許 7542374 | 回転機構および基板処理装置 | 2024年 8月30日 |
809 件中 256-270 件を表示
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7546384 7546403 7546418 7546427 7546456 7546461 7546477 7546749 7546754 7545185 7543616 7544446 7544448 7544450 7542374
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