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東京エレクトロン株式会社
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（
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7734859 | 基板処理システム、および搬送方法 | 2025年 9月 5日 | |
| 特許 7734239 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2025年 9月 4日 | |
| 特許 7732727 | 気化装置、基板処理システム及び気化方法 | 2025年 9月 2日 | |
| 特許 7732728 | 基板処理装置、及び基板処理方法 | 2025年 9月 2日 | |
| 特許 7733152 | 搬送システムおよびアライナモジュール | 2025年 9月 2日 | |
| 特許 7731313 | 半導体装置の製造方法および半導体装置の製造システム | 2025年 8月29日 | |
| 特許 7731443 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2025年 8月29日 | |
| 特許 7731470 | 真空処理装置、及び真空処理装置の制御方法 | 2025年 8月29日 | |
| 特許 7731500 | 液供給システム、液処理装置および液供給方法 | 2025年 8月29日 | |
| 特許 7730795 | プラズマ処理装置及び検出方法 | 2025年 8月28日 | |
| 特許 7730985 | 塗布処理方法、記憶媒体、及び塗布処理装置 | 2025年 8月28日 | |
| 特許 7731001 | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板処理プログラム | 2025年 8月28日 | |
| 特許 7729705 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 | 2025年 8月26日 | |
| 特許 7729706 | 温度校正システム、検査装置および温度校正方法 | 2025年 8月26日 | |
| 特許 7728865 | クリーニング方法およびプラズマ処理方法 | 2025年 8月25日 |
763 件中 166-180 件を表示
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7734859 7734239 7732727 7732728 7733152 7731313 7731443 7731470 7731500 7730795 7730985 7731001 7729705 7729706 7728865
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