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東京エレクトロン株式会社
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■ 2025年 特許取得件数ランキング 第21位 316件
（
2024年：第25位 802件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7652485 | 基板処理装置及び異常検出方法 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652488 | プラズマ処理装置 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652489 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652490 | ゲートバルブ、基板処理システムおよびゲートバルブの動作方法 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652491 | 基板処理システム、情報処理装置、情報処理方法及び情報処理プログラム | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652492 | 基板処理システム、及び消耗部品 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652497 | プラズマ処理装置及び電源システム | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7652896 | 基板処理システム及びメンテナンス方法 | 2025年 3月27日 | |
| 特許 7650674 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2025年 3月25日 | |
| 特許 7650834 | プラズマ処理装置 | 2025年 3月25日 | |
| 特許 7650952 | 基板処理装置 | 2025年 3月25日 | |
| 特許 7650955 | 基板処理方法及び基板処理システム | 2025年 3月25日 | |
| 特許 7650972 | 基板液処理装置及び基板液処理方法 | 2025年 3月25日 | |
| 特許 7650349 | エッチング方法及びプラズマ処理装置 | 2025年 3月24日 | |
| 特許 7649752 | 有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法 | 2025年 3月21日 |
323 件中 121-135 件を表示
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7652485 7652488 7652489 7652490 7652491 7652492 7652497 7652896 7650674 7650834 7650952 7650955 7650972 7650349 7649752
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