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(2023年:第146位 259件)
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(2023年:第292位 112件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7541983 | 金属原子層のエッチング堆積装置および金属フリー配位子による処理 | 2024年 8月29日 | |
特許 7542001 | RFプラズマ・ツールにおける複数レベルのパルス化のためのシステム及び方法 | 2024年 8月29日 | |
特許 7539873 | ベベルエッチャ用の下側プラズマ排除区域リング | 2024年 8月26日 | |
特許 7539912 | 半導体製造用途における摩擦攪拌接合 | 2024年 8月26日 | |
特許 7539931 | KHZ RF発生器の動作サイクル内でMHZ RF発生器を調節するためのシステムおよび方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7540043 | マルチステーション型堆積システムにおける膜厚整合のための、サイクル及び時間が可変のRF活性化方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7536451 | トランス結合容量性同調切り替えを用いたトランス結合プラズマパルス化のためのシステムおよび方法 | 2024年 8月20日 | |
特許 7535617 | 異方性パターンエッチングおよび処理のための方法および装置 | 2024年 8月16日 | |
特許 7534292 | He孔着火/アーク放電を防止する特徴を有する高出力静電チャック | 2024年 8月14日 | |
特許 7532598 | 高電力回路からの切り離しを伴わない静電容量測定 | 2024年 8月13日 | |
特許 7530874 | 可動エッジリング設計 | 2024年 8月 8日 | |
特許 7529741 | ラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給して遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするための温度制御を備えた統合シャワーヘッド | 2024年 8月 6日 | |
特許 7527361 | 基板処理システムの基板支持体の発熱体のための電源分離回路 | 2024年 8月 2日 | |
特許 7527456 | フォトレジストのドライ除去用プロセスツール | 2024年 8月 2日 | |
特許 7526767 | 半導体デバイス製造における酸化スズ膜 | 2024年 8月 1日 |
154 件中 61-75 件を表示
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7541983 7542001 7539873 7539912 7539931 7540043 7536451 7535617 7534292 7532598 7530874 7529741 7527361 7527456 7526767
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
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日常実務の疑問点に答える著作権(周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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