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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第178位 197件
(
2023年:第146位 258件)
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2023年:第292位 112件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7542001 | RFプラズマ・ツールにおける複数レベルのパルス化のためのシステム及び方法 | 2024年 8月29日 | |
| 特許 7541983 | 金属原子層のエッチング堆積装置および金属フリー配位子による処理 | 2024年 8月29日 | |
| 特許 7540043 | マルチステーション型堆積システムにおける膜厚整合のための、サイクル及び時間が可変のRF活性化方法 | 2024年 8月26日 | |
| 特許 7539931 | KHZ RF発生器の動作サイクル内でMHZ RF発生器を調節するためのシステムおよび方法 | 2024年 8月26日 | |
| 特許 7539912 | 半導体製造用途における摩擦攪拌接合 | 2024年 8月26日 | |
| 特許 7539873 | ベベルエッチャ用の下側プラズマ排除区域リング | 2024年 8月26日 | |
| 特許 7536451 | トランス結合容量性同調切り替えを用いたトランス結合プラズマパルス化のためのシステムおよび方法 | 2024年 8月20日 | |
| 特許 7535617 | 異方性パターンエッチングおよび処理のための方法および装置 | 2024年 8月16日 | |
| 特許 7534292 | He孔着火/アーク放電を防止する特徴を有する高出力静電チャック | 2024年 8月14日 | |
| 特許 7532598 | 高電力回路からの切り離しを伴わない静電容量測定 | 2024年 8月13日 | |
| 特許 7530874 | 可動エッジリング設計 | 2024年 8月 8日 | |
| 特許 7529741 | ラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給して遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするための温度制御を備えた統合シャワーヘッド | 2024年 8月 6日 | |
| 特許 7527456 | フォトレジストのドライ除去用プロセスツール | 2024年 8月 2日 | |
| 特許 7527361 | 基板処理システムの基板支持体の発熱体のための電源分離回路 | 2024年 8月 2日 | |
| 特許 7526767 | 半導体デバイス製造における酸化スズ膜 | 2024年 8月 1日 |
154 件中 61-75 件を表示
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7542001 7541983 7540043 7539931 7539912 7539873 7536451 7535617 7534292 7532598 7530874 7529741 7527456 7527361 7526767
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10月13日(火) - オンライン
AI Native知財 - 私たちはどう生きるか? - 楠浦崇央 氏(TechnoProducer株式会社 代表取締役/発明塾 塾長) x 弁理士木本大介(リーガルテック株式会社アドバイザー)
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企業の知財部員がすべき「知財実務手順の対応」 ~特許出願から明細書作成のノウハウ及び先行技術調査の基礎、特許権侵害の実務対応~
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〜発明が生まれる開発現場の知財力を強化する~一枚図解でわかる 新規性・進歩性 ──発明とは何なのかを理解して、その先のイノベーションへ!
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