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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第178位 197件 (2023年:第146位 259件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第216位 154件 (2023年:第292位 112件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7524068 | MEMSコリオリ・ガス流量制御器 | 2024年 7月29日 | |
特許 7523629 | ウエハ裏面における堆積の低減のための可変温度ハードウェアおよび方法 | 2024年 7月26日 | |
特許 7515647 | 半導体処理ツールにおけるRF電流測定 | 2024年 7月12日 | |
特許 7515661 | 半導体RFプラズマ処理のためのパルス内のRFパルス | 2024年 7月12日 | |
特許 7514913 | エッジリングポケットを洗浄するためのシステムおよび方法 | 2024年 7月11日 | |
特許 7514245 | 急速交互プロセスにおいて均一性を向上させるためのマルチロケーションガス注入 | 2024年 7月10日 | |
特許 7512279 | 多重ヒータアレイを備えた静電チャックのための長寿命かつ拡張温度範囲の埋め込みダイオード設計 | 2024年 7月 8日 | |
特許 7511486 | 径方向エッチング均一性の能動制御 | 2024年 7月 5日 | |
特許 7511570 | エッチングリアクタ用のターボ分子ポンプおよびカソードアセンブリ | 2024年 7月 5日 | |
特許 7510436 | 基板処理システムのためのモデルベースのスケジュール設定 | 2024年 7月 3日 | |
特許 7507146 | 高アスペクト比エッチングのための金属含有パシベーション | 2024年 6月27日 | |
特許 7507234 | 基板処理システムの処理チャンバの整合を改善するための流量計測較正 | 2024年 6月27日 | |
特許 7506461 | 基板における粒子低減用のパルスレーザ蒸着及び基板表面を有する基板用の装置 | 2024年 6月26日 | |
特許 7504977 | リソグラフィにおける確率的な歩留まりへの影響の排除 | 2024年 6月24日 | |
特許 7504240 | 基板を処理するための周波数同調と整合同調とを重複させずに適用するためのシステムおよび方法 | 2024年 6月21日 |
154 件中 76-90 件を表示
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7524068 7523629 7515647 7515661 7514913 7514245 7512279 7511486 7511570 7510436 7507146 7507234 7506461 7504977 7504240
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