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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7502545 | 照射フォトレジストパターニングのための統合乾式プロセス | 2024年 6月18日 | |
特許 7498323 | 冷却ガス区画および対応する溝ならびに単極静電クランプ電極パターンを備える静電チャック | 2024年 6月11日 | |
特許 7497420 | カメラウエハを使用した台座セットアップ | 2024年 6月10日 | |
特許 7494209 | 調整された原子層堆積 | 2024年 6月 3日 | |
特許 7494291 | 半導体装置用の収着チャンバ壁 | 2024年 6月 3日 | |
特許 7488815 | 窒化ケイ素膜を堆積させる方法 | 2024年 5月22日 | |
特許 7487171 | 堆積用のデュアルガス供給シャワーヘッド | 2024年 5月20日 | |
特許 7487189 | 間隙充填のためのドープまたは非ドープシリコン炭化物および遠隔水素プラズマ曝露 | 2024年 5月20日 | |
特許 7487360 | ボトムリング | 2024年 5月20日 | |
特許 7485736 | 3D NANDデバイス用の誘電体材料上におけるモリブデンを含有する低抵抗膜の成膜 | 2024年 5月16日 | |
特許 7485817 | プラズマ処理チャンバのための電極 | 2024年 5月16日 | |
特許 7483795 | 調整可能/交換可能なエッジ結合リングのための検出システム | 2024年 5月15日 | |
特許 7483839 | エアギャップの形成方法 | 2024年 5月15日 | |
特許 7481845 | 基板処理システムのための温度調節された基板支持体 | 2024年 5月13日 | |
特許 7479344 | 抵抗熱測定を介するシャワーヘッド加熱の制御 | 2024年 5月 8日 |
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7502545 7498323 7497420 7494209 7494291 7488815 7487171 7487189 7487360 7485736 7485817 7483795 7483839 7481845 7479344
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