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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第178位 197件 (2023年:第146位 259件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7478146 | ハロゲン系化合物を用いて選択的にエッチングするための原子層エッチングシステム | 2024年 5月 2日 | |
特許 7476169 | 静電チャック内の電極のパラメータを設定および調節するためのインピーダンスを有するチューニング回路を備えたRFチューニングシステム | 2024年 4月30日 | |
特許 7472114 | 堆積副生成物の蓄積からの真空ポンプの保護 | 2024年 4月22日 | |
特許 7471054 | 耐プラズマ皮膜塗布のために表面を選択的にパターニングする方法 | 2024年 4月19日 | |
特許 7471478 | 小さい角発散でピークイオンエネルギ増強を達成するためのシステムおよび方法 | 2024年 4月19日 | |
特許 7470101 | 寿命が延長された閉じ込めリング | 2024年 4月17日 | |
特許 7466686 | 基板処理システムにおける中間リング腐食補償 | 2024年 4月12日 | |
特許 7461923 | 電子励起原子層エッチング | 2024年 4月 4日 | |
特許 7461965 | プラズマ系反応器のための冷却 | 2024年 4月 4日 | |
特許 7461333 | 高アスペクト比の誘電体エッチングを達成するための3つ以上の状態 | 2024年 4月 3日 | |
特許 7460727 | パターニング用途のための原子層エッチング、反応性前駆体、及びエネルギ源 | 2024年 4月 2日 | |
特許 7457756 | ウエハエッジにおける方位角方向の厚さの均一性を向上させるためのポケット内ウエハのセンタリング | 2024年 3月28日 | |
特許 7456951 | 基板処理システムにおける基板支持体の動的温度制御 | 2024年 3月27日 | |
特許 7455182 | 静電気的にクランプされたエッジリング | 2024年 3月25日 | |
特許 7454504 | 基板処理中の基板温度の決定および制御 | 2024年 3月22日 |
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7478146 7476169 7472114 7471054 7471478 7470101 7466686 7461923 7461965 7461333 7460727 7457756 7456951 7455182 7454504
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