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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-535223	直接駆動高周波電源を使用するプラズマ処理システム用の分光反射率測定システムを含む計測エンクロージャ	2024年 9月30日
特表 2024-535295	ＩＣＰ源におけるＲＦ電力の増加を軽減するための筐体	2024年 9月30日
特表 2024-535296	流量制限器の上流側のヒータを使用する複数のステーションへのガス流量のバランシング	2024年 9月30日
特表 2024-534785	静電容量式センサ基板によるシャワーヘッドから台座までのギャップ測定	2024年 9月26日
特表 2024-534873	カルコゲナイド処理技術および装置	2024年 9月26日
特表 2024-534990	ダイレクトドライブ無線周波電源に対するコイルの対称的結合	2024年 9月26日
特表 2024-535072	基板からの残留物除去のためのインサイチュ裏面プラズマ処理	2024年 9月26日
特表 2024-534326	半導体処理の間のプロセスガスランプ	2024年 9月20日
特開 2024-125357	径方向エッチング均一性の能動制御	2024年 9月18日
特表 2024-533108	三塩化ホウ素を使用した原子層エッチング	2024年 9月12日
特表 2024-533155	複合セラミック体のための接合技術	2024年 9月12日
特表 2024-533354	帯電誘起欠陥を低減するためのサイクリングレシピにおける多状態ＲＦパルシング	2024年 9月12日
特開 2024-123194	エッチングリアクタ用のターボ分子ポンプおよびカソードアセンブリ	2024年 9月10日
特表 2024-532665	金属含有レジストの乾式現像性能を改善する多段階露光後処理	2024年 9月10日
特表 2024-532773	対称的なＲＦ戻り経路を提供するプロセスモジュールチャンバ	2024年 9月10日

174 件中 46-60 件を表示

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2024-535223 2024-535295 2024-535296 2024-534785 2024-534873 2024-534990 2024-535072 2024-534326 2024-125357 2024-533108 2024-533155 2024-533354 2024-123194 2024-532665 2024-532773

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