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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第188位 174件 (2023年:第146位 259件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第221位 135件 (2023年:第292位 112件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-532887 | プラズマ処理用電極誘電体ノズル | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532909 | 炭素含有層をエッチングする方法および装置 | 2024年 9月10日 | |
特表 2024-532107 | 半導体ウエハのエッジ領域の放射加熱のための装置 | 2024年 9月 5日 | |
特表 2024-531240 | 半導体製造ツールにおいて用いるためのクロック制御可能基板処理台座 | 2024年 8月29日 | |
特表 2024-531242 | 加工済セラミックチャンバパーツ | 2024年 8月29日 | |
特表 2024-530605 | 金属含有フォトレジストのリワーク | 2024年 8月23日 | |
特開 2024-112809 | 基板処理システムのための温度調節された基板支持体 | 2024年 8月21日 | |
特開 2024-112973 | カメラウエハを使用した台座セットアップ | 2024年 8月21日 | |
特開 2024-113104 | 照射フォトレジストパターニングのための統合乾式プロセス | 2024年 8月21日 | |
特開 2024-113176 | リソグラフィにおける確率的な歩留まりへの影響の排除 | 2024年 8月21日 | |
特表 2024-530452 | 誘電体薄膜堆積のための変換器結合プラズマ源設計 | 2024年 8月21日 | |
特開 2024-105428 | 堆積用のデュアルガス供給シャワーヘッド | 2024年 8月 6日 | |
特開 2024-105438 | ボトムおよびミドルエッジリング | 2024年 8月 6日 | |
特表 2024-529362 | 方形パルス信号を使用するためのプラズマシステムおよび方法 | 2024年 8月 6日 | |
特表 2024-529433 | メソチャネルアセンブリを有する基板支持体 | 2024年 8月 6日 |
174 件中 61-75 件を表示
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2024-532887 2024-532909 2024-532107 2024-531240 2024-531242 2024-530605 2024-112809 2024-112973 2024-113104 2024-113176 2024-530452 2024-105428 2024-105438 2024-529362 2024-529433
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -