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ラム リサーチ コーポレーション

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  2024年 出願公開件数ランキング    第188位 174件 下降2023年:第146位 259件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第221位 135件 上昇2023年:第292位 112件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-532887 プラズマ処理用電極誘電体ノズル 2024年 9月10日
特表 2024-532909 炭素含有層をエッチングする方法および装置 2024年 9月10日
特表 2024-532107 半導体ウエハのエッジ領域の放射加熱のための装置 2024年 9月 5日
特表 2024-531240 半導体製造ツールにおいて用いるためのクロック制御可能基板処理台座 2024年 8月29日
特表 2024-531242 加工済セラミックチャンバパーツ 2024年 8月29日
特表 2024-530605 金属含有フォトレジストのリワーク 2024年 8月23日
特開 2024-112809 基板処理システムのための温度調節された基板支持体 2024年 8月21日
特開 2024-112973 カメラウエハを使用した台座セットアップ 2024年 8月21日
特開 2024-113104 照射フォトレジストパターニングのための統合乾式プロセス 2024年 8月21日
特開 2024-113176 リソグラフィにおける確率的な歩留まりへの影響の排除 2024年 8月21日
特表 2024-530452 誘電体薄膜堆積のための変換器結合プラズマ源設計 2024年 8月21日
特開 2024-105428 堆積用のデュアルガス供給シャワーヘッド 2024年 8月 6日
特開 2024-105438 ボトムおよびミドルエッジリング 2024年 8月 6日
特表 2024-529362 方形パルス信号を使用するためのプラズマシステムおよび方法 2024年 8月 6日
特表 2024-529433 メソチャネルアセンブリを有する基板支持体 2024年 8月 6日

174 件中 61-75 件を表示

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2024-532887 2024-532909 2024-532107 2024-531240 2024-531242 2024-530605 2024-112809 2024-112973 2024-113104 2024-113176 2024-530452 2024-105428 2024-105438 2024-529362 2024-529433

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