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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-156989	ＫＨＺＲＦ発生器の動作サイクル内でＭＨＺＲＦ発生器を調節するためのシステムおよび方法	2024年11月 6日
特表 2024-540927	自動校正ウエハおよび切り欠きを有する校正ウエハを使用する適応型位置決めシステムおよびルーチン	2024年11月 6日
特開 2024-153798	可動エッジリング設計	2024年10月29日
特表 2024-539666	電極に提供されるＲＦ信号間の位相差を決定するためのシステムおよび方法	2024年10月29日
特表 2024-539698	ラジカル種供給のための穴サイズを有するシャワーヘッド	2024年10月29日
特表 2024-539719	容量結合チャンバのための被覆部品	2024年10月29日
特表 2024-538994	アンモニア／塩素化学半導体処理のための装置およびシステム	2024年10月28日
特表 2024-539058	マルチステーション型半導体処理チャンバのクリーニングのための装置	2024年10月28日
特表 2024-539127	プラズマエッチングにおけるｉｎ－ｓｉｔｕ詰まり除去	2024年10月28日
特開 2024-151332	多重ヒータアレイを備えた静電チャックのための長寿命かつ拡張温度範囲の埋め込みダイオード設計	2024年10月24日
特開 2024-150639	基板処理システムの基板支持体の発熱体のための電源分離回路	2024年10月23日
特開 2024-150670	ラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給して遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするための温度制御を備えた統合シャワーヘッド	2024年10月23日
特表 2024-538526	静電クランプによるリモートプラズマ堆積	2024年10月23日
特表 2024-538650	マルチステーション処理モジュールおよびリアクタアーキテクチャ	2024年10月23日
特表 2024-538796	ベベル洗浄によるストリップ	2024年10月23日

174 件中 16-30 件を表示

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2024-156989 2024-540927 2024-153798 2024-539666 2024-539698 2024-539719 2024-538994 2024-539058 2024-539127 2024-151332 2024-150639 2024-150670 2024-538526 2024-538650 2024-538796

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