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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第195位 153件
(
2025年:第127位 267件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第174位 139件
(
2025年:第136位 217件)
(ランキング更新日:2026年10月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7826418 | プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム | 2026年 3月 9日 | |
| 特許 7825678 | RFプラズマ・ツールにおける複数レベルのパルス化のためのシステム及び方法 | 2026年 3月 6日 | |
| 特許 7824881 | レーザ透過型センサを用いたウエハの厚さおよびギャップのその場モニタリング | 2026年 3月 5日 | |
| 特許 7824443 | 複数のパターニング放射吸収元素および/または垂直組成勾配を備えたフォトレジスト | 2026年 3月 4日 | |
| 特許 7823202 | プラズマラジカルエッジリングバリアシール | 2026年 3月 3日 | |
| 特許 7822418 | ハロゲン系化合物を用いて選択的にエッチングするための原子層エッチングシステム | 2026年 3月 2日 | |
| 特許 7821211 | セラミックベースプレートを備えるマルチプレート静電チャック | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7821215 | プラズマ処理ツールにおける画像に基づくプラズマシースプロファイル検出 | 2026年 2月26日 | |
| 特許 7819096 | モリブデン堆積 | 2026年 2月24日 | |
| 特許 7818683 | 金属含有レジストのリソグラフィ性能を向上させるためのベーキング方法 | 2026年 2月20日 | |
| 特許 7817996 | 延伸静電チャック電極を備える高温台座 | 2026年 2月19日 | |
| 特許 7815379 | 複数の出力ポートを有する無線周波数電力発生器 | 2026年 2月17日 | |
| 特許 7813341 | ラメラセラミック構造 | 2026年 2月12日 | |
| 特許 7812790 | 金属含有EUVレジストの乾式現像性能を高めるための塗布/露光後処理 | 2026年 2月10日 | |
| 特許 7812340 | 塩素を用いた高アスペクト比誘電体エッチング | 2026年 2月 9日 |
139 件中 106-120 件を表示
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7826418 7825678 7824881 7824443 7823202 7822418 7821211 7821215 7819096 7818683 7817996 7815379 7813341 7812790 7812340
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