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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第115位 202件
(2024年:第178位 197件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第130位 154件
(2024年:第216位 154件)
(ランキング更新日:2025年9月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7636418 | 半導体製造プロセスのための性能予測子 | 2025年 2月26日 | |
特許 7636429 | 基板処理チャンバ用の誘電体窓 | 2025年 2月26日 | |
特許 7634528 | 変圧器および/または変圧器結合コンバイナを含む無線周波数分配回路 | 2025年 2月21日 | |
特許 7631186 | プラズマベースの堆積のための表面改質深さ制御堆積 | 2025年 2月18日 | |
特許 7631328 | 二重プレナムフラクタルシャワーヘッド | 2025年 2月18日 | |
特許 7628954 | 陽極酸化およびコーティングされた表面の巨視的なテクスチャ | 2025年 2月12日 | |
特許 7628167 | ヒータアレイにおける故障の特定および補償 | 2025年 2月 7日 | |
特許 7626628 | プラズマプルーム用のフィルタ | 2025年 2月 4日 | |
特許 7626705 | 差圧ベースの流量計 | 2025年 2月 4日 | |
特許 7626818 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2025年 2月 4日 | |
特許 7626846 | 高温プロセスのための軸方向に冷却される金属シャワーヘッド | 2025年 2月 4日 | |
特許 7625540 | マルチステーション半導体処理における独立して調整可能な流路コンダクタンス | 2025年 2月 3日 | |
特許 7625571 | 基板処理システム用の熱電冷却台座 | 2025年 2月 3日 | |
特許 7624460 | 裏面処理のためのステーション可変支持フィーチャを備えたマルチステーション処理ツール | 2025年 1月30日 | |
特許 7624464 | 処理均一性を改善した基板支持体 | 2025年 1月30日 |
154 件中 121-135 件を表示
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7636418 7636429 7634528 7631186 7631328 7628954 7628167 7626628 7626705 7626818 7626846 7625540 7625571 7624460 7624464
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AI時代の知財実務と戦略を再構築するための視座 ~調査・出願を効率化するプロンプト実例と、ソフトバンクに学ぶ組織的対応~
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