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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第115位 202件
(2024年:第178位 197件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第130位 154件
(2024年:第216位 154件)
(ランキング更新日:2025年9月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7623300 | 基板処理システムの静電チャックの温度を監視するためのRF免疫センサプローブ | 2025年 1月28日 | |
特許 7623305 | 基板表面の蒸気洗浄 | 2025年 1月28日 | |
特許 7622266 | マルチレベルRF電力パルシングのために高周波(RF)信号発生器の自動周波数調整を行う方法およびシステム | 2025年 1月27日 | |
特許 7620021 | 高アスペクト比の3D NANDエッチングのための側壁のノッチ低減 | 2025年 1月22日 | |
特許 7618601 | 複数のパターニング放射吸収元素および/または垂直組成勾配を備えたフォトレジスト | 2025年 1月21日 | |
特許 7618720 | シャワーヘッド傾斜を動的に調整するためのアクチュエータ | 2025年 1月21日 | |
特許 7615119 | 基板処理システムの自律的な制御及び検査のためのハードウェア・ソフトウェア統合型コンピュータビジョンシステム | 2025年 1月16日 | |
特許 7614111 | 高アスペクト比フィーチャのエッチング中の限界寸法制御および保護層の形成に使用される炭素ベース堆積物 | 2025年 1月15日 | |
特許 7612618 | 基板処理システム用の縮径キャリアリングハードウェア | 2025年 1月14日 | |
特許 7611856 | 閉ループ多出力無線周波数(RF)整合 | 2025年 1月10日 | |
特許 7611892 | 半導体処理装置のための非エラストマ性、非ポリマ性、かつ非金属性の膜弁 | 2025年 1月10日 | |
特許 7611957 | 加熱素子が埋め込まれた基板支持体のための長寿命高出力端子 | 2025年 1月10日 | |
特許 7611172 | 回転アライメントを必要とするエッジリングの自動搬送 | 2025年 1月 9日 | |
特許 7611215 | 半導体ウエハ製造のためのマッチレスプラズマ源 | 2025年 1月 9日 | |
特許 7609636 | 3次元垂直NANDワード線用の金属充填プロセス | 2025年 1月 7日 |
154 件中 136-150 件を表示
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7623300 7623305 7622266 7620021 7618601 7618720 7615119 7614111 7612618 7611856 7611892 7611957 7611172 7611215 7609636
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