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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第570位 57件
(2014年:第737位 41件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第272位 103件
(2014年:第212位 189件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5707682 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5708147 | 研削ホイール、両頭研削加工方法およびシリコンウェーハの製造方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5708171 | シリコン単結晶引き上げ装置及びシリコン単結晶の製造方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5708864 | ワークの研磨装置 | 2015年 4月30日 | |
特許 5709737 | シリコン単結晶の製造方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5703780 | 太陽電池用ウェーハの製造方法、太陽電池セルの製造方法、および太陽電池モジュールの製造方法 | 2015年 4月22日 | |
特許 5704155 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2015年 4月22日 | |
特許 5705469 | 石英ガラスルツボのハンドリング装置及びハンドリング方法 | 2015年 4月22日 | |
特許 5699597 | 両面研磨装置 | 2015年 4月15日 | |
特許 5699783 | ワークの研磨方法及び研磨装置 | 2015年 4月15日 | |
特許 5702622 | トレンチ埋め込みエピタキシャル成長条件の最適化方法 | 2015年 4月15日 | |
特許 5696349 | 裏面照射型固体撮像素子用ウェーハの製造方法 | 2015年 4月 8日 | |
特許 5696491 | ウェーハ洗浄装置及び洗浄方法 | 2015年 4月 8日 | |
特許 5696510 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2015年 4月 8日 | |
特許 5696710 | シリコン単結晶インゴット | 2015年 4月 8日 |
104 件中 61-75 件を表示
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5707682 5708147 5708171 5708864 5709737 5703780 5704155 5705469 5699597 5699783 5702622 5696349 5696491 5696510 5696710
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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