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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第356位 104件 (2019年:第321位 122件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第290位 95件 (2019年:第185位 146件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6773121 | 石英ガラスルツボ及びその製造方法並びに石英ガラスルツボを用いたシリコン単結晶の製造方法 | 2020年10月21日 | |
特許 6766700 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法、エピタキシャルシリコンウェーハおよび固体撮像素子の製造方法 | 2020年10月14日 | |
特許 6766792 | 検査治具及びこれを用いたシリコンウェーハの欠陥検査方法 | 2020年10月14日 | |
特許 6766893 | リフトピン、該リフトピンを用いたエピタキシャル成長装置およびシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 | 2020年10月14日 | |
特許 6763347 | 窒化物半導体基板の製造方法および窒化物半導体基板 | 2020年 9月30日 | |
特許 6759626 | エピタキシャルウェーハの製造方法およびエピタキシャルウェーハ | 2020年 9月23日 | |
特許 6760128 | シリコン単結晶の製造方法、整流部材、および、単結晶引き上げ装置 | 2020年 9月23日 | |
特許 6760243 | シリコン単結晶の良否判別方法、シリコン単結晶の製造方法、およびシリコンウェーハの製造方法 | 2020年 9月23日 | |
特許 6753356 | 坩堝支持装置およびシリコン単結晶の製造方法 | 2020年 9月 9日 | |
特許 6750351 | クラスターイオンビーム生成方法およびそれを用いたクラスターイオンビーム照射方法 | 2020年 9月 2日 | |
特許 6750582 | チャックテーブルの洗浄装置および該洗浄装置を備える研削装置 | 2020年 9月 2日 | |
特許 6747393 | シリコンウェーハの抵抗率評価方法 | 2020年 8月26日 | |
特許 6747526 | 単結晶引上装置のクリーニング装置 | 2020年 8月26日 | |
特許 6747599 | シリコンウェーハの両面研磨方法 | 2020年 8月26日 | |
特許 6743746 | ウェーハの両面研磨装置および両面研磨方法 | 2020年 8月19日 |
95 件中 16-30 件を表示
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6773121 6766700 6766792 6766893 6763347 6759626 6760128 6760243 6753356 6750351 6750582 6747393 6747526 6747599 6743746
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12月1日(日) -
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