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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第138位 311件
(2019年:第141位 330件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第136位 210件
(2019年:第156位 176件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6672222 | パルス列アニーリング方法および装置 | 2020年 3月25日 | |
特許 6673903 | 高密度高Sp3含有層を実現するための高電力インパルスマグネトロンスパッタリング処理 | 2020年 3月25日 | |
特許 6673912 | 付加製造プロセスにより製作される研磨パッド | 2020年 3月25日 | |
特許 6666897 | 堆積前の測定を伴う研磨 | 2020年 3月18日 | |
特許 6666900 | 独立した分離されたヒータ区域を有するウエハキャリア | 2020年 3月18日 | |
特許 6668384 | コイルアセンブリ、コイルアセンブリを用いてトレンチを形成する方法及びエッチングリアクタ | 2020年 3月18日 | |
特許 6660464 | 改良されたクリーニングのための不均一なガスフロークリアランスを備えたフレーム | 2020年 3月11日 | |
特許 6660658 | 単体静電チャック | 2020年 3月11日 | |
特許 6660875 | 熱可塑性物質をマイクロ波エネルギーで硬化させる方法 | 2020年 3月11日 | |
特許 6660936 | 改良されたフロー均一性/ガスコンダクタンスを備えた可変処理容積に対処するための対称チャンバ本体設計アーキテクチャ | 2020年 3月11日 | |
特許 6660971 | シャドーフレームサポート | 2020年 3月11日 | |
特許 6661241 | 蓋及びノズル上の希土類酸化物系コーティング用イオンアシスト蒸着 | 2020年 3月11日 | |
特許 6661625 | 高温酸化ケイ素原子層堆積技術 | 2020年 3月11日 | |
特許 6661640 | 化学機械研磨ツール用の構成要素 | 2020年 3月11日 | |
特許 6662780 | 低摩擦パッドを有する物理的気相堆積(PVD)ターゲット | 2020年 3月11日 |
211 件中 151-165 件を表示
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6672222 6673903 6673912 6666897 6666900 6668384 6660464 6660658 6660875 6660936 6660971 6661241 6661625 6661640 6662780
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