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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件 (2021年:第132位 313件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件 (2021年:第117位 241件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2022-551922 | 間隙充填堆積プロセス | 2022年12月14日 | |
特開 2022-184885 | 液体リチウムの供給及び制御 | 2022年12月13日 | |
特表 2022-551767 | 自動教示エンクロージャシステム | 2022年12月13日 | |
特開 2022-180349 | インデックス可能な側方収容ポッド装置、加熱側方収容ポッド装置、システム、及び方法 | 2022年12月 6日 | |
特開 2022-180387 | 物理的気相堆積処理システムのターゲットの冷却 | 2022年12月 6日 | |
特開 2022-180536 | 誘導結合プラズマソースの改善 | 2022年12月 6日 | |
特開 2022-179687 | 物理的気相堆積チャンバ内電磁石 | 2022年12月 2日 | |
特表 2022-550561 | ゲートインターフェース工学のための新規方法 | 2022年12月 2日 | |
特表 2022-550433 | ゲートオールアラウンドI/Oエンジニアリング | 2022年12月 1日 | |
特表 2022-550482 | 基板支持体のための一体化された電極及び接地面 | 2022年12月 1日 | |
特開 2022-176935 | 正確な温度及び流量制御を備えたマルチステーションチャンバリッド | 2022年11月30日 | |
特開 2022-176952 | 半導体処理チャンバコンポーネント用の保護コーティングの原子層堆積 | 2022年11月30日 | |
特開 2022-176987 | 厚膜内の結晶化の開始を停めるためのスパッタエッチングを使用したPVD二酸化チタン形成 | 2022年11月30日 | |
特開 2022-177031 | 化学機械研磨用スラリー分配装置 | 2022年11月30日 | |
特表 2022-550018 | キャリア近接マスクのための方法および装置 | 2022年11月30日 |
541 件中 16-30 件を表示
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2022-551922 2022-184885 2022-551767 2022-180349 2022-180387 2022-180536 2022-179687 2022-550561 2022-550433 2022-550482 2022-176935 2022-176952 2022-176987 2022-177031 2022-550018
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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