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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第32位 708件 (2022年:第56位 541件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第80位 398件 (2022年:第112位 303件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2023-552977 | 半導体パターニングアプリケーションのための酸化スズおよび炭化スズ材料 | 2023年12月20日 | |
特表 2023-553008 | 応力誘起欠陥を緩和するための炭素CVD堆積法 | 2023年12月20日 | |
特開 2023-179475 | 異種パッケージング統合のための再構成基板構造及び製造方法 | 2023年12月19日 | |
特表 2023-552749 | 基板ヒータにおけるマルチゾーンヒータチューニング | 2023年12月19日 | |
特表 2023-552323 | 光学装置計測システムおよび関連方法 | 2023年12月15日 | |
特表 2023-552411 | 半導体製造前駆体のためのアンプル | 2023年12月15日 | |
特開 2023-178295 | 化学機械研磨装置における消耗部品モニタリング | 2023年12月14日 | |
特表 2023-552094 | 拡張現実感計測学ツールのための照明システム | 2023年12月14日 | |
特表 2023-551813 | 傾斜した角度を有する構造を形成するためのリソグラフィ方法 | 2023年12月13日 | |
特表 2023-551818 | 表面トポグラフィ測定装置および方法 | 2023年12月13日 | |
特開 2023-175682 | 熱化学気相堆積(CVD)における均一性を改善するための装置及び方法 | 2023年12月12日 | |
特開 2023-175714 | 空間的原子層堆積におけるガス分離制御 | 2023年12月12日 | |
特開 2023-175774 | 半導体処理システムにおける外部基板回転 | 2023年12月12日 | |
特表 2023-551669 | 光学装置のための光学解像度測定方法 | 2023年12月12日 | |
特開 2023-174653 | 一体化されたエピタキシと予洗浄システム | 2023年12月 8日 |
708 件中 16-30 件を表示
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2023-552977 2023-553008 2023-179475 2023-552749 2023-552323 2023-552411 2023-178295 2023-552094 2023-551813 2023-551818 2023-175682 2023-175714 2023-175774 2023-551669 2023-174653
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