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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7518277 | 多区画電気化学補給セル | 2024年 7月17日 | |
特許 7518280 | ピエゾ位置制御による流量比制御 | 2024年 7月17日 | |
特許 7518289 | 再帰的ガスチャネルを備えるシャワーヘッドアセンブリ | 2024年 7月17日 | |
特許 7516510 | シャッターディスク | 2024年 7月16日 | |
特許 7516524 | 単一基板洗浄チャンバを有するモジュール式研磨システムにおける基板ハンドリング | 2024年 7月16日 | |
特許 7516574 | 薄膜電気光学導波管変調器装置 | 2024年 7月16日 | |
特許 7516611 | エッジリングの温度及びバイアスの制御 | 2024年 7月16日 | |
特許 7516657 | プラズマ処理用途のためのパルス電圧源 | 2024年 7月16日 | |
特許 7515402 | 気相堆積によるP-金属仕事関数膜の仕事関数の調整 | 2024年 7月12日 | |
特許 7515474 | マイクロインプリントによるビア形成の方法 | 2024年 7月12日 | |
特許 7515602 | 酸化物又は酸窒化物シード層を有する高臨界温度金属窒化物層 | 2024年 7月12日 | |
特許 7515603 | 高臨界温度金属窒化物層を製造する方法 | 2024年 7月12日 | |
特許 7514862 | プラズマアークを低減したプロセスチャンバ | 2024年 7月11日 | |
特許 7514917 | P-FETのためのP型双極子 | 2024年 7月11日 | |
特許 7513735 | 光学デバイスをフィラメント化および個片化するためのレーザダイシングシステム | 2024年 7月 9日 |
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7518277 7518280 7518289 7516510 7516524 7516574 7516611 7516657 7515402 7515474 7515602 7515603 7514862 7514917 7513735
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1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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