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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7520017	遮光エッジ除外ゾーンを備えた透明な基板	2024年 7月22日
特許 7520111	背面パージが設けられ斜面パージが組み込まれたウエハヒータ	2024年 7月22日
特許 7520117	固体ヒータ及び製造の方法	2024年 7月22日
特許 7520128	水平バフ研磨モジュール	2024年 7月22日
特許 7520249	エネルギー拡散イオンビームのための装置、システム、及び方法	2024年 7月22日
特許 7519380	温度制御のための化学機械研磨温度スキャン装置	2024年 7月19日
特許 7519410	両面処理のためのパターニングされたチャック	2024年 7月19日
特許 7519445	選択的間隙充填のための低温プラズマ前洗浄	2024年 7月19日
特許 7518835	漏れ電流が少ない、ケイ素ホウ素を含む膜の形成方法	2024年 7月18日
特許 7518925	半導体処理チャンバにおけるＲＦ周波数制御及びＲＦ接地経路リターン	2024年 7月18日
特許 7518165	真空処理装置、真空システム、ガス分圧制御アセンブリ、及び真空処理チャンバ内のガス分圧を制御する方法	2024年 7月17日
特許 7518172	パルスＰＶＤ電力の波形形状係数	2024年 7月17日
特許 7518175	接点延長部又は調節可能な止め具を有する基板研磨装置	2024年 7月17日
特許 7518178	プラズマチャンバ状態モニタリングのための容量性感知データ統合	2024年 7月17日
特許 7518184	基板処理システムキャリア	2024年 7月17日

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7520017 7520111 7520117 7520128 7520249 7519380 7519410 7519445 7518835 7518925 7518165 7518172 7518175 7518178 7518184

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