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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
（
2023年：第32位 708件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
（
2023年：第80位 398件）
（ランキング更新日：2025年1月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7451719 | マスク配向 | 2024年 3月18日 | |
| 特許 7450642 | イメージングシステム及びメタレンズアレイを製造する方法 | 2024年 3月15日 | |
| 特許 7450026 | ゲートインターフェース工学のための新規方法 | 2024年 3月14日 | |
| 特許 7450051 | 薄膜封入を改善するための方法 | 2024年 3月14日 | |
| 特許 7449040 | 静的磁石アセンブリを有する物理的気相堆積チャンバ、及びスパッタリングする方法 | 2024年 3月13日 | |
| 特許 7449419 | 希ガスによる極低温原子層エッチング | 2024年 3月13日 | |
| 特許 7448534 | 磁気ハウジングシステム | 2024年 3月12日 | |
| 特許 7447004 | 窒化ケイ素の薄膜のための処理方法 | 2024年 3月11日 | |
| 特許 7447074 | 極紫外線マスクブランクの欠陥の低減 | 2024年 3月11日 | |
| 特許 7447118 | 光学装置製造のためのイオンビーム源 | 2024年 3月11日 | |
| 特許 7447119 | 光学装置製造のための電子ビーム装置 | 2024年 3月11日 | |
| 特許 7447126 | 光学積層体の堆積及び装置内計測 | 2024年 3月11日 | |
| 特許 7447278 | 選択的金属間隙充填のためのマルチステップ前洗浄 | 2024年 3月11日 | |
| 特許 7447284 | 研磨パッドの摩耗補償による基板層の厚さの決定 | 2024年 3月11日 | |
| 特許 7447285 | 複数の角度方向加圧可能区域を有する研磨キャリアヘッド | 2024年 3月11日 |
555 件中 451-465 件を表示
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7451719 7450642 7450026 7450051 7449040 7449419 7448534 7447004 7447074 7447118 7447119 7447126 7447278 7447284 7447285
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