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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7441939 | 半導体処理チャンバ | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441944 | プラズマ対向センサを有するプロセスセンサ及び光学壁 | 2024年 3月 1日 | |
特許 7441164 | キャビティ内のマイクロ波場を検出するための方法および装置 | 2024年 2月29日 | |
特許 7441208 | 電子デバイス製造装置、システム、及び方法における負荷ポート動作 | 2024年 2月29日 | |
特許 7441244 | 低い粗さのダイヤモンドフィルムの堆積 | 2024年 2月29日 | |
特許 7440213 | フェーズドアレイのモジュール型高周波源 | 2024年 2月28日 | |
特許 7440528 | バイアスされた抽出プレートを備えたイオン源 | 2024年 2月28日 | |
特許 7440649 | 統合された窒化アルミニウムシード又は導波層を備えたSNSPD | 2024年 2月28日 | |
特許 7439101 | 膜の有効酸化物厚さを変更するための水素化及び窒化処理 | 2024年 2月27日 | |
特許 7439164 | 処理構成要素のRFID部品認証および追跡 | 2024年 2月27日 | |
特許 7439253 | アイドルシールド、堆積装置、堆積システム、ならびに組み立てる方法および動作させる方法 | 2024年 2月27日 | |
特許 7439345 | レシピ動作におけるプロセス流体経路の切り替え | 2024年 2月27日 | |
特許 7438104 | 基板裏側の損傷の低減のための基板支持体 | 2024年 2月26日 | |
特許 7438111 | 金属膜の高圧酸化 | 2024年 2月26日 | |
特許 7438243 | 基板をパッケージングするための平坦化方法 | 2024年 2月26日 |
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7441939 7441944 7441164 7441208 7441244 7440213 7440528 7440649 7439101 7439164 7439253 7439345 7438104 7438111 7438243
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1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月10日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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