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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
(
2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
(
2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年11月7日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7455968 | PMOS高誘電率金属ゲート | 2024年 3月26日 | |
| 特許 7456023 | リソグラフィ用途のフォトレジスト層上への炭素の選択的堆積 | 2024年 3月26日 | |
| 特許 7454577 | 傾斜した格子を製造する方法 | 2024年 3月22日 | |
| 特許 7454612 | 半導体処理チャンバコンポーネント用の保護コーティングの原子層堆積 | 2024年 3月22日 | |
| 特許 7454668 | パッケージコアアセンブリ及び製造方法 | 2024年 3月22日 | |
| 特許 7454699 | 極紫外線マスク用吸収体材料 | 2024年 3月22日 | |
| 特許 7454742 | 極端紫外線マスク吸収体材料 | 2024年 3月22日 | |
| 特許 7453951 | ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 | 2024年 3月21日 | |
| 特許 7454049 | マルチカソード堆積システム及び方法 | 2024年 3月21日 | |
| 特許 7453352 | 処理チャンバ表面または部品上に保護コーティングを形成するための方法 | 2024年 3月19日 | |
| 特許 7451404 | 改善されたターゲット冷却構成を有するマグネトロン | 2024年 3月18日 | |
| 特許 7451540 | パルス状電圧波形を制御するためのフィードバックループ | 2024年 3月18日 | |
| 特許 7451551 | 管状カソードを備えたイオン源 | 2024年 3月18日 | |
| 特許 7451561 | 回転パドルを有する固定チャンバ内で粒子をコーティングするためのリアクタ | 2024年 3月18日 | |
| 特許 7451601 | 空間分離を伴う単一ウエハの処理環境 | 2024年 3月18日 |
555 件中 436-450 件を表示
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7455968 7456023 7454577 7454612 7454668 7454699 7454742 7453951 7454049 7453352 7451404 7451540 7451551 7451561 7451601
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11月13日(木) -
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11月19日(水) -
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11月21日(金) -
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