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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2024年 出願公開件数ランキング    第41位 605件 下降2023年:第32位 708件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第47位 555件 上昇2023年:第80位 398件)

(ランキング更新日:2025年1月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7455968 PMOS高誘電率金属ゲート 2024年 3月26日
特許 7456023 リソグラフィ用途のフォトレジスト層上への炭素の選択的堆積 2024年 3月26日
特許 7454577 傾斜した格子を製造する方法 2024年 3月22日
特許 7454612 半導体処理チャンバコンポーネント用の保護コーティングの原子層堆積 2024年 3月22日
特許 7454668 パッケージコアアセンブリ及び製造方法 2024年 3月22日
特許 7454699 極紫外線マスク用吸収体材料 2024年 3月22日
特許 7454742 極端紫外線マスク吸収体材料 2024年 3月22日
特許 7453951 ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法 2024年 3月21日
特許 7454049 マルチカソード堆積システム及び方法 2024年 3月21日
特許 7453352 処理チャンバ表面または部品上に保護コーティングを形成するための方法 2024年 3月19日
特許 7451404 改善されたターゲット冷却構成を有するマグネトロン 2024年 3月18日
特許 7451540 パルス状電圧波形を制御するためのフィードバックループ 2024年 3月18日
特許 7451551 管状カソードを備えたイオン源 2024年 3月18日
特許 7451561 回転パドルを有する固定チャンバ内で粒子をコーティングするためのリアクタ 2024年 3月18日
特許 7451601 空間分離を伴う単一ウエハの処理環境 2024年 3月18日

555 件中 436-450 件を表示

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7455968 7456023 7454577 7454612 7454668 7454699 7454742 7453951 7454049 7453352 7451404 7451540 7451551 7451561 7451601

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